机译:用于193 nm双层光刻的部分氟化多面体低聚倍半硅氧烷官能化(甲基)丙烯酸酯抗蚀剂
CHEMICALLY AMPLIFIED RESISTS; IMMERSION LITHOGRAPHY; ADDITION POLYMERS; COPOLYMERS; POSS; POLYMERIZATION; DESIGN; CHALLENGES; EXPOSURE;
机译:用于193 nm双层光刻的部分氟化多面体低聚倍半硅氧烷官能化(甲基)丙烯酸酯抗蚀剂
机译:用于193 nm浸没式光刻和157 nm光刻的氟化材料的合成
机译:星形多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)氟化丙烯酸酯的合成,用于疏水性蜂窝多孔膜
机译:基于多面体低聚倍半硅氧烷的193nm光刻胶双层抗蚀剂
机译:探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂,用于193 nm光刻。
机译:使用有机氟化抗蚀剂和压印光刻技术对多种生物分子进行正交构图
机译:部分氟化的醇含孔寡聚二烷烃 - 官能化(甲基)丙烯酸酯抗蚀剂193 nm双层光刻
机译:湿法开发的双层抗蚀剂,用于193纳米准分子激光光刻