Herstellung eines Mikroaktors auf der Basis lasergestutzter Strukturierung von PVD-abgeschiedenen Bimetallstrukturen

摘要

Hier wird die Herstellung eines Mikroaktors auf Basis eines mittels Laser strukturiertem Bimetall-Elementes vorgestellt. Die Bimetallschichten werden als mehrlagiger Schichtverbund mit dem MSIP-PVD-Verfahren auf den aktortragenden Si-Substraten abgeschieden. Fur das Bimetall-Element wird eine Kombination von Schichten mit niedrigem und Schichten mit hohem thermischen Ausdehnungskoeffizienten verwendet. Aufgrund der unterschiedlichen Warmeausdehnungskoeffizienten konnen die strukturierten Schichten durch eine externe Aktivierung als reversibles Fugeelement eingesetzt werden. Die Schichten werden nachfolgend mittels Laser strukturiert. Durch ein kombiniertes Verfahren aus Abtragen mit gepulster Laserstrahlung und selektivem Atzen von Silizium werden Gesenke zum Fuhren von Glasfasern hergestellt. Nachtraglich wird das Bimetall mit ultrakurz gepulster Laserstrahlung zu Aktor-Armen strukturiert. Mechanisch abgeloste Bimetallstrukturen sind gut beweglich. Die Eigenschaften des Bimetalls bleiben dabei selbst fur Strukturen im Mikrometermassstab erhalten.