机译:用圆环形电容耦合等离子体清洁晶圆边缘,斜面和背面
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机译:通过在电容耦合等离子体中定制电压波形来控制晶片的电子速度分布,以补偿高纵横比蚀刻特征的表面充电
机译:电容耦合300mm晶圆等离子处理室中与频率相关的等离子特性
机译:晶圆边缘均匀性考虑单频电容耦合放电中的离子惯性
机译:脉冲电容耦合等离子体的时间,空间和光谱解析研究
机译:电容耦合等离子体电极上的电压分布用于产生大气压等离子体
机译:等离子体渗透到电容耦合等离子体中的晶圆聚焦环间隙中