机译:电子回旋共振等离子体增强的金属有机化学气相沉积工艺在GaN膜沉积中的发射光谱
ECR-MOPECVD; OES; GaN film; XRD; MOLECULAR-BEAM-EPITAXY; ECR PLASMA; SPATIAL-DISTRIBUTION; RADIO-FREQUENCY; GROWTH; PECVD; TEMPERATURE; CHAMBER;
机译:电子回旋共振等离子体增强的金属有机化学气相沉积工艺在GaN膜沉积中的发射光谱
机译:Langmuir探针与光发射光谱在可变磁场电子回旋共振化学气相沉积过程中的比较和综合研究,该过程用于沉积氢化非晶硅薄膜
机译:射频偏压对电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积法沉积氢化非晶硅性能的影响
机译:微波等离子体电子回旋共振化学气相沉积法沉积的纳米晶和非晶硅薄膜晶体管:材料分析,器件制造和表征。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:等离子体辅助金属有机化学气相沉积法在Si(111)衬底上生长AlxGa1-xN / GaN异质结构薄膜的微观结构和光学性质
机译:电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积法研究氮等离子体不稳定性及氮化硅的生长