机译:两种频率电容耦合等离子体中有机低k材料蚀刻的预测
N-2-H-2 FLOWING DISCHARGES; CONSISTENT KINETIC-MODEL; LOW DIELECTRIC FILM; N-2/H-2; GASES;
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机译:C:F沉积对CHF3 60 MHz / 2 MHz双频电容耦合等离子体中SiCOH低k膜蚀刻的影响
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机译:N / sub 2 // H / sub 2 /等离子体在电容耦合等离子体设备中用于低K材料蚀刻的建模
机译:合理设计超低k介电材料的无损电容耦合等离子体蚀刻和光刻胶剥离工艺。
机译:在−50°C以上的条件下使用微毛细管冷凝对多孔有机硅低k进行无损等离子体刻蚀
机译:电容耦合HBR / HE,HBR / AR等离子体蚀刻应用的比较研究:流体模型的数值研究
机译:InGaalp复合半导体系统的电感耦合等离子体和电子回旋共振等离子体刻蚀;固态和材料科学