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【2h】

A comparative study of capacitively coupled HBr/He, HBr/Ar plasmas for etching applications: Numerical investigation by fluid model

机译：电容耦合HBR / HE，HBR / AR等离子体蚀刻应用的比较研究：流体模型的数值研究

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Banat Gul;
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年度 2015
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