Effect of C：F Deposition on Etching of SiCOH Low-k Films in CHF3  60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitively Coupled Plasma

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机译：C：F沉积对CHF3 60 MHz / 2 MHz双频电容耦合等离子体中SiCOH低k膜蚀刻的影响

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摘要

^10F;等离子体科学和技术：英文版

机译：^10F;等离子体科学和技术：英文版

来源
《等离子体科学和技术：英文版》 |2010年第004期|P.437-441|共5页
作者
施国峰; 叶超; 徐轶君; 黄宏伟; 袁圆; 宁兆元;
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作者单位

School;

of;

Physics;

Science;

and;

Technology,;

Jiangsu;

Key;

Laboratory;

of;

Thin;

Films,;

Soochow;

University,;

Suzhou;

215006,;

China;

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收录信息
原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类 TN405.982;
关键词
等离子体沉积; 沉积薄膜; CHF3; 蚀刻; 容性耦合; 双频; 等离子体刻蚀; 血浆浓度;

机译：等离子体沉积;沉积薄膜;CHF3;蚀刻;容性耦合;双频;等离子体刻蚀;血浆浓度;
入库时间 2022-08-19 04:19:21