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机译:通过电感耦合等离子体刻蚀制备的AlGaAs / InGaAs HEMT的器件特性
Basic Research Laboratory, Electronics and Telecommunications Research Institute, Yusong P.O. Box 106, Daejeon, South Korea;
HEMTs; dry etching; inductively coupled plasma;
机译:通过在有机发光器件上直接激光写入和感应耦合等离子体蚀刻制造的六边形微透镜阵列,以提高输出耦合效率
机译:电感耦合等离子体电子器件石墨烯薄膜的刻蚀特性
机译:CH_2F_2 / O_2 / Ar电感耦合等离子体中纳米器件的SiN_x薄膜的腐蚀特性及机理:O_2混合比的影响
机译:成角度的条纹InGaASP / InP SLED由低损伤电感耦合等离子体干蚀刻制造
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:硅晶片蚀刻速率特性具有突发宽度使用150 kHz带高功率突发电感耦合等离子体
机译:高密度平面电感耦合BCL3 / SF6PLASMA中的Algaas和Ingap半导体选择性蚀刻GaAs和InGap半导体的研究
机译:在BCl(3)基化学中的III-V半导体的电感耦合等离子体蚀刻:第二部分:Inp,InGaas,InGaasp,Inas和allnas;应用表面科学