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机译:基板温度对等离子增强化学气相沉积法制备碳包覆光纤性能的影响
Department of Materials Science and Engineering, National Chung Hsing University, 250 Kuo Kuang Road, Taichung, 402, Taiwan;
amorphous carbon films; chemical vapor deposition; substrate temperature; optical fiber;
机译:沉积温度对热化学气相沉积制备的全封闭碳包覆光纤性能的影响
机译:以甲烷和氩气为前驱体气体,通过等离子增强化学气相沉积法制备的全封闭碳包覆光纤的退火效果
机译:通过等离子增强化学气相沉积法制备的氢/甲烷比不同的碳包覆光纤的机械强度和热致应力空隙
机译:退火气氛对制备的等离子增强化学气相沉积SiON薄膜特性和光学性能的影响
机译:化学气相沉积和等离子体加氢制备非晶硅的光电性能。
机译:使用低温气相陷阱热化学气相沉积法在蓝宝石衬底上生长的Zno微米/纳米结构:结构和光学性质
机译:在低衬底温度下通过射频等离子体增强化学气相沉积法沉积的掺杂非晶硅和纳米晶硅的电子和结构性质