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陈瑾; 徐可为; 高润生; 何家文; 赵程; 李世直;
西安交通大学;
青岛化工学院;
气相沉积; 氮化钛; 薄膜; 应力;
机译:内应力对等离子增强化学气相沉积SiN_x:H薄膜的断裂韧性的影响
机译:沉积温度对等离子增强化学气相沉积法制备微晶硅薄膜的影响
机译:衬底温度对等离子增强化学气相沉积法沉积铟锡氧化物薄膜结合态的影响
机译:重复的Ar〜+轰击对等离子增强化学气相沉积(PECVD)TiN薄膜耐蚀性的影响
机译:晶格匹配的III-V / IV组半导体异质结构:金属有机化学气相沉积和远程等离子体增强化学气相沉积。
机译:基质类型对等离子体增强化学气相沉积制备垂直石墨烯结构的影响
机译:沉积温度对等离子体增强化学气相沉积制备微晶硅薄膜的影响
机译:利用原位划痕装置研究等离子体辅助化学气相沉积形成TiN薄膜的界面组成
机译:射频功率等离子体增强化学气相沉积反应器和影响等离子体增强化学气相沉积的方法
机译:射频供电的等离子体增强化学气相沉积反应器和影响等离子体增强化学气相沉积的方法
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