机译:创建与4H-SiC的室温欧姆接触:通过特定的接触电阻测量和X射线光电子能谱研究
Univ Wales Swansea, Sch Engn, Swansea SA2 8PP, W Glam, Wales;
X-ray photoelectron spectroscopy; electrical transport measurements; nickel; silicon carbide; silicides; metal-semiconductor interfaces; Schottky barrier; contact; SILICON-CARBIDE; SCHOTTKY-BARRIER; NI;
机译:Ni和Nb厚度对4H-SiC的欧姆触点低特定接触电阻和高温可靠性的影响
机译:气相保护的高p型掺杂4H-SiC:PiN二极管的汽液固外延的应用和欧姆接触的比接触电阻的提高
机译:CF_4:O_2表面蚀刻N-Type 4H-SiC上的Ni / Nb欧姆接触中的接触电阻和高温可靠性的表面蚀刻
机译:通过特定的接触电阻测量和X射线光电子能谱研究了与4H-SiC的低电阻欧姆接触的形成,从而避免了后退火的需要
机译:通过固相反应开发与n-Ga(或Al)(0.5)In(0.5)P的不尖峰欧姆接触以及对n-GaAs进行低温处理的欧姆接触
机译:在不同的注入后退火后p型铝注入的4H-SiC层上的欧姆接触
机译:高效掺杂4H-SIC:引脚二极管蒸汽液 - 固体选择性外延的应用及欧姆触点的特定接触电阻的销二极管
机译:欧姆接触半导体金刚石的特定接触电阻测量