机译:HOPG上硅纳米颗粒薄膜的氧化研究
Institut fuer Physikalische Chemie, Universitaet Innsbruck, Innrain 52a, A-6020 Innsbruck, Austria;
Institut fuer Ionenphysik und Angewandte Physik, Universitat Innsbruck, Technikerstr. 25, A-6020 Innsbruck, Austria;
Institut fuer Ionenphysik und Angewandte Physik, Universitat Innsbruck, Technikerstr. 25, A-6020 Innsbruck, Austria;
Institut fuer Ionenphysik und Angewandte Physik, Universitat Innsbruck, Technikerstr. 25, A-6020 Innsbruck, Austria;
Institut fuer Physikalische Chemie, Universitaet Innsbruck, Innrain 52a, A-6020 Innsbruck, Austria;
Institut fuer Ionenphysik und Angewandte Physik, Universitat Innsbruck, Technikerstr. 25, A-6020 Innsbruck, Austria;
silicon; nanoparticles; oxidation; depth profile; XPS; STM; thin film; magnetron sputtering;
机译:同步辐射研究HOPG基片上二氯化酞菁硅薄膜的取向
机译:氧化硅和氧化硅-氮化硅叠层结构非常薄的薄膜的X射线反射率研究
机译:通过快速热氧化处理大大增强了嵌入纳米颗粒的多孔硅薄膜的紫外光响应
机译:旋涂氧化锌和硅纳米粒子掺杂氧化铜异质结制备薄膜太阳能电池
机译:氧化锶铁/二氧化硅/硅和氧化锶铁/氧化铝薄膜系统的热稳定性:透射电子显微镜研究薄膜系统的界面结构和氧化锶铁/氧化铝的电导传感响应。
机译:嵌入氮化硅薄膜中的硅量子点与金纳米粒子在发光器件中的耦合增强了电致发光
机译:掺杂铒的LaF3纳米颗粒结合在二氧化硅薄膜中,用于有源集成光学应用