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机译:Ni(110)表面上覆铜层的Stranski-Krastanow生长
Department of Physical Electronics and Informatics, Graduate School of Engineering, Osaka City University, 3-3-138 Sugimoto, Sumiyoshi-Ku. Osaka 558-8585, Japan;
Faculty of Liberal Arts and Sciences, Osaka Prefecture University, 1 - 1 Gakuen-cho, Naka-Ku, Sakai, Osaka 599-8531, Japan;
Department of Physical Electronics and Informatics, Graduate School of Engineering, Osaka City University, 3-3-138 Sugimoto, Sumiyoshi-Ku. Osaka 558-8585, Japan;
Ni(110); copper; stranski-krastanow growth; STM; heteroepitaxial growth;
机译:Ni(110)表面上铜覆层的混合层形成
机译:TiO_2表面过渡金属覆盖层电子结构改性的光发射研究Ⅲ。 TiO_2(001)上的Ni和TiO_2(110)上的Cu
机译:低能俄歇电子能谱线作为Ni(110)表面Ba上位阶的指标
机译:聚酰亚胺表面上的光化学核化成核与10ns激光照射 - 铜核铜金属生长和SiO {Sub} 2铜金属的沉积
机译:模型催化剂表面的光电子光谱研究:(1)〜3d(10)金属离子位的键合相互作用; (2)〜氧化锌单晶上覆铜的化学性质。
机译:稳定二维多孔二氧化钛覆盖层上的单个Ni原子SrTiO3(110)表面
机译:低能量螺旋钻电子光谱线作为Ni(110)表面上的BA叠层顺序的指标
机译:III-V族化合物半导体(110)表面上的V柱覆盖层的新表面原子结构。