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机译:TiO_2表面过渡金属覆盖层电子结构改性的光发射研究Ⅲ。 TiO_2(001)上的Ni和TiO_2(110)上的Cu
Electronic and Information System Engineering, Faculty of Science and Technology, Hirosaki University, 3 Bunkyo-cho, Hirosaki Aomori 036-8561, Japan;
angle resolved photoemission; synchrotron radiation photoelectron spectroscopy; physical adsorption; surface structure; morphology; roughness; topography; titanium oxide; metal-insulator interfaces; nickel; copper;
机译:TiO_2表面过渡金属覆盖层电子结构改性的光发射研究Ⅱ。 TiO_2(001)上的铬
机译:TiO_2表面过渡金属覆盖层电子结构改性的光发射研究Ⅰ。 TiO_2(110)上的铁
机译:Tio_2(110)表面可控自掺杂中点缺陷的电子结构:结合光发射光谱和密度泛函理论研究
机译:金红石TiO_2(110)表面的几何和电子结构的第一原理计算
机译:带有钡覆盖层的钨表面电子结构的场发射和光场发射。
机译:稳定二维多孔二氧化钛覆盖层上的单个Ni原子SrTiO3(110)表面
机译:结构和工艺对用于稳定水氧化n-Si / TiO_2 / Ni光阳极的TiO_2保护层行为的影响