机译:锗基双晕栅堆叠三材料环绕栅隧道场效应晶体管的新亚阈值性能分析
Department of Electronics and Communication Engineering Thiagarajar College of Engineering Madurai 625015 TamilNadu India;
Germanium; Gate stacked; Tunnel FET; Subthreshold current; Subthreshold swing; Halo doping; Drain current;
机译:用于超低功率应用的锗源双光晕双介质三重材料围绕栅极隧道场效应晶体管的亚阈值性能分析
机译:锗源双光双介质三重材料围绕闸门隧道FET的影响改进模拟/射频性能
机译:基于三重材料栅极掺杂隧道场效应晶体管的设计与模拟性能分析
机译:用于射频应用的双光晕双介电三层材料环绕栅MOSFET的噪声分析
机译:机械应力对硅和锗金属氧化物半导体器件的影响:沟道迁移率,栅极隧穿电流,阈值电压和栅极堆叠
机译:一种适用于低功率应用的新型锗环绕源栅极全能隧穿场效应晶体管
机译:双栅极隧道场效应晶体管氧化物材料变化效果的性能分析