机译:超精细的IC几何形状:在制造高性能集成电路时,气体等离子体刻蚀可以取代化学刻蚀
RCA Labs., Princeton, NJ, USA|c|;
机译:电探测的磁共振揭示了硅大规模集成电路中干蚀刻损伤的微观原因
机译:级联反应离子刻蚀/电感耦合等离子体刻蚀InGaAsP / InP双浅脊矩形环形激光光子集成电路的制备与表征
机译:级联反应离子刻蚀/电感耦合等离子体刻蚀InGaAsP / InP双浅脊矩形环形激光光子集成电路的制备与表征
机译:化学辅助离子束刻蚀制备的AlGaAs光子集成电路
机译:集成电路制造中硅和金属蚀刻的建模和轮廓仿真。
机译:球面光刻技术结合金属辅助化学刻蚀和各向异性化学刻蚀在Si(111)衬底上制造的三角形孔阵列
机译:电探测的磁共振揭示了硅大规模集成电路中干蚀刻损伤的微观原因
机译:集成电路自动化处理的化学蚀刻