机译:级联反应离子刻蚀/电感耦合等离子体刻蚀InGaAsP / InP双浅脊矩形环形激光光子集成电路的制备与表征
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机译:详细分析感应耦合等离子体反应离子刻蚀工艺对InP / InGaAsP中光子晶体的孔深度和形状的影响
机译:基于InP的光子集成电路的电感耦合等离子体干法刻蚀制造表面光栅
机译:使用电感耦合等离子体刻蚀制造的低内部损耗InP / InGaAsP激光二极管
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:使用各向同性电感耦合等离子体蚀刻的硅纳米尖端批量制造
机译:利用超低压电感耦合等离子体刻蚀制备Inp异质结构中的高纵横比双槽光子晶体波导
机译:在BCl(3)基化学中的III-V半导体的电感耦合等离子体蚀刻:第二部分:Inp,InGaas,InGaasp,Inas和allnas;应用表面科学