机译:氧化物/ III-V栅堆叠中界面态密度的提取
SEMATECH, Albany, NY 12203 USA;
SEMATECH, Albany, NY 12203 USA;
SEMATECH, Albany, NY 12203 USA;
SEMATECH, Albany, NY 12203 USA|Univ Modena & Reggio Emilia, DISMI, Reggio Emilia, Italy;
SEMATECH, Albany, NY 12203 USA|Univ Modena & Reggio Emilia, DISMI, Reggio Emilia, Italy;
field effect devices; surface states; electric variable measurements; III-V MOS;
机译:Pt / La2O_3 / Ge栅堆叠中界面陷阱密度的提取以及Ge中电荷中性能级的确定
机译:门控霍尔法在InGaAs埋量子阱金属氧化物半导体场效应晶体管中的界面陷阱密度和迁移率提取
机译:电子回旋共振等离子体后氧化法制备低界面陷阱密度的Al_2O_3 / GeO_x / Ge栅堆叠
机译:高k / Ge栅堆叠中界面陷阱密度的提取和电荷中性水平的确定
机译:使用门控霍尔法提取InGaAs金属氧化物半导体结构中的载流子迁移率和界面陷阱密度。
机译:具有纳米堆叠的高k栅极电介质和3D鳍形结构的高性能III-V MOSFET
机译:发行商注意事项:“用于副0.1μm互补金属氧化物半导体栅极氧化物堆叠的”HFO2 / SiO2接口的热稳定性:软X射线光电子能谱“的价带和定量核心水平研究”J。苹果。物理。 96,6362(2004)