机译:沉积温度对在硅基板上生长的SnS薄膜性能的影响-与在玻璃基板上生长的膜的结构和光学性质的比较研究
Univ Tunis El Manar, Lab Analyt Chem & Electrochem, Fac Sci, Tunis 2092, Tunisia|Univ Rovira & Virgili, Dept Elect Elect & Automat Engn, E-43007 Tarragona, Spain;
Univ Tunis El Manar, Lab Analyt Chem & Electrochem, Fac Sci, Tunis 2092, Tunisia;
Univ Rovira & Virgili, Dept Elect Elect & Automat Engn, E-43007 Tarragona, Spain;
SnS thin films; silicon substrates; CVD; XRD; optical properties;
机译:沉积温度对钠钙玻璃衬底上脉冲激光烧蚀Cu_2ZnSnS_4薄膜的结构,组成和光学性能的影响
机译:喷雾热解法在玻璃和FTO衬底上生长的In和Al掺杂的ZnO薄膜的结构,光学,光电导性质的比较研究
机译:膜厚和退火温度对通过原子层沉积法生长的Si(100)衬底上ZnO薄膜的结构和光学性质的影响
机译:脉冲激光沉积在硅衬底上生长的ZnO薄膜的光学和微结构性质
机译:通过有机分子束沉积生长的结晶有机薄膜的结构和光学性质。
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:脉冲激光沉积在MgO衬底上生长的Ba(Zr x,Ti1-x)O3薄膜的结构和光学性质的成分依赖性
机译:衬底温度和氢稀释比对热线化学气相沉积法生长纳米硅薄膜性能的影响