基板温度对电子束沉积LaF3薄膜紫外性能的影响

摘要

采用电子束沉积的方法,在紫外熔凝石英基片上制备了LaF<,3>单层膜.研究了基板温度对LaF<,3>薄膜紫外光学性能的影响,基板温度从200℃上升到300℃,间隔为50℃.采用分光光度计测量了样品的透射率光谱曲线,并在此基础上进行了光学常数的计算.分析结果表明:在本实验条件下,薄膜的折射率随温度的升高而增大;消光系数随温度的升高有增大的趋势;