机译:通过热等离子体PVD高速沉积纳米结构SiC膜
Department of Materials Engineering, Graduate School of Engineering, The University of Tokyo, 7-3-1 Hongo, Bunkyo-Ku, Tokyo 113-8656, Japan;
thermal plasma; PVD; nanostructured films; silicon carbide films;
机译:通过热等离子体PVD高速沉积纳米结构SiC膜
机译:与快速热蒸发物理气相沉积(PVD)相比,等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)在植入氧化铝陶瓷上产生更好的生物相容性SiOx薄膜的水解稳定性
机译:与快速热蒸发物理气相沉积(PVD)相比,等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)在植入氧化铝陶瓷上产生更好的生物相容性SiOx薄膜的水解稳定性
机译:纳米结构SiC涂层的热等离子体物理气相沉积
机译:对二氧化硅膜的热化学气相沉积(CVD)和多晶硅膜的高密度等离子体CVD过程中颗粒形成和传输的研究。
机译:通过等离子化学气相沉积高速率和大面积外延硅膜的沉积
机译:大气压等离子体化学气相沉积的非晶硅薄膜的高速率沉积。 (第一个报告)。具有旋转电极的大气压等离子体CVD装置的设计与生产。