机译:Ge(001)表面上Si-Ge和Sn-Ge二聚体散射势的第一性原理计算
Graduate School of Engineering, Osaka University, Suita, Osaka 565-0871, Japan;
impurity and defect levels; energy states of adsorbed species; methods of electronic structure calculations; scattering by point defects; dislocations; surfaces; and other imperfections (including kondo effect); computational modeling; simulation;
机译:通过扫描隧道显微镜和从头算计算研究了Ge(001)上Si-Ge和Sn-Ge杂质二聚体的散射势
机译:Ge(001)表面上倾斜的不对称Sn-Ge二聚体形成的原子跷跷板开关
机译:拉伸应变Si(001)表面上二聚体结构的对称演化:第一性原理密度泛函计算
机译:应变对Ge原子在Si和Ge(001)表面扩散的影响的第一性原理计算
机译:离子表面上物理吸附的双原子分子的结构,稳定性和相变的计算机模拟:一氧化碳/氧化镁(001),氮/氧化镁(001)和氮/氯化钠(001)系统。
机译:P42 / ncm相中Si-Ge合金的理论研究:第一性原理计算
机译:si-Ge和sn-Ge散射电位的第一性原理计算 Ge(001)表面上的二聚体
机译:通过扫描隧道显微镜直接识别si(001)表面上的清洁和单氢二聚体二聚体。