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机译:使用脉冲激光沉积在(001)LaAlO_3单晶上生长的纯锰掺杂无铅Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3外延薄膜的微波介电性能
Laboratoire Science des Precedes Ceramiques et de Traitements de Surface, UMR 7315 CNRS, Universite de Limoges, Centre Europeen de la Ceramique, 12, rue Atlantis, 87068 Limoges Cedex, France,Universite Francois Rabelais de Tours, CNRS, CEA, INSA CVL, GREMAN UMR 7347, IUT de Blois, 15 rue de la chocolaterie, CS 2903, 41029 Blois Cedex, France;
Institut XLIM, UMR 7252 CNRS, Universite de Limoges, 123, avenue Albert Thomas, 87060 Limoges Cedex, France;
Institut XLIM, UMR 7252 CNRS, Universite de Limoges, 123, avenue Albert Thomas, 87060 Limoges Cedex, France;
Institut XLIM, UMR 7252 CNRS, Universite de Limoges, 123, avenue Albert Thomas, 87060 Limoges Cedex, France;
Laboratoire Science des Precedes Ceramiques et de Traitements de Surface, UMR 7315 CNRS, Universite de Limoges, Centre Europeen de la Ceramique, 12, rue Atlantis, 87068 Limoges Cedex, France;
Laboratoire Science des Precedes Ceramiques et de Traitements de Surface, UMR 7315 CNRS, Universite de Limoges, Centre Europeen de la Ceramique, 12, rue Atlantis, 87068 Limoges Cedex, France;
Laboratoire Science des Precedes Ceramiques et de Traitements de Surface, UMR 7315 CNRS, Universite de Limoges, Centre Europeen de la Ceramique, 12, rue Atlantis, 87068 Limoges Cedex, France;
Institut des Sciences Chimiques de Rennes, UMR 6226 CNRS, Universite de Rennes 1, Campus de Beaulieu, 35042 Rennes Cedex, France;
Institut XLIM, UMR 7252 CNRS, Universite de Limoges, 123, avenue Albert Thomas, 87060 Limoges Cedex, France;
Institut XLIM, UMR 7252 CNRS, Universite de Limoges, 123, avenue Albert Thomas, 87060 Limoges Cedex, France;
Institut XLIM, UMR 7252 CNRS, Universite de Limoges, 123, avenue Albert Thomas, 87060 Limoges Cedex, France;
Institut des Sciences Chimiques de Rennes, UMR 6226 CNRS, Universite de Rennes 1, Campus de Beaulieu, 35042 Rennes Cedex, France;
Laboratoire Science des Precedes Ceramiques et de Traitements de Surface, UMR 7315 CNRS, Universite de Limoges, Centre Europeen de la Ceramique, 12, rue Atlantis, 87068 Limoges Cedex, France;
dielectric properties; doping; lead-free ferroelectrics; Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3; pulsed laser deposition; thin films;
机译:脉冲激光沉积生长的(110)外延无铅铁电Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3薄膜的电学性质:宏观和纳米级数据
机译:外延铂底电极上脉冲激光沉积生长的无铅Na_(0.5)bi_(0.5)tio_3铁电薄膜
机译:脉冲激光沉积沉积在Pt /(001)MgO衬底上的(Na_(0.5)K_(0.5))NbO_3-BaZrO_3-(Bi_(0.5)Li_(0.5))TiO_3薄膜的铁电性能
机译:脉冲激光沉积Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3薄膜的光学和微波介电性能
机译:脉冲激光沉积生长的外延YBa2Cu3O7-8薄膜和YBa2Cu3O7-8 / PrBa2Cu3O7-8异质结构的超导性能
机译:脉冲激光沉积法制备MgAl2O4-(Ni0.5Zn0.5)Fe2O4薄膜的磁性和光学性质
机译:生长缺陷对(001)MgO脉冲激光沉积生长外延Ba 0.5 sub> Sr 0.5 sub> TiO 3 sub>薄膜中微波性能的影响