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机译:使用厚的AlN表面钝化膜减少AlGaN / GaN HFET中的自热
Center for Nano Materials and Technology, Japan Advanced Institute of Science and Technology (JAIST), 1-1 Asahidai, Nomishi, Ishikawa 923-1292, Japan;
Center for Nano Materials and Technology, Japan Advanced Institute of Science and Technology (JAIST), 1-1 Asahidai, Nomishi, Ishikawa 923-1292, Japan;
POWDEC K. K., 2500 Hagizono, Chigasaki-shi. Kanagawa 253-8543, Japan;
Center for Nano Materials and Technology, Japan Advanced Institute of Science and Technology (JAIST), 1-1 Asahidai, Nomishi, Ishikawa 923-1292, Japan;
high-field and nonlinear effects; Ⅲ-Ⅴ semiconductor-to-semiconductor contacts; p-n junctions; and heterojunctions; field effect devices;
机译:用于表面散热的AlGaN / GaN HFET上的AlN钝化
机译:具有AlN钝化的AlGaN / GaN HFET中的10400V的高击穿电压
机译:具有AlN钝化的AlGaN / GaN HFET中的10400V的高击穿电压
机译:8300V阻挡电压AlGaN / GaN功率HFET具有厚的多ALN钝化
机译:处理表面状态的传输拐点和电荷陷阱对AlGaN / GaN HFET漏极电流的影响。
机译:蓝宝石衬底上具有纳米尺度厚AlN成核层的高质量无裂纹AlN薄膜的异质外延生长用于基于AlGaN的深紫外发光二极管
机译:介电膜对GaN和GaN / AlGaN异质结构的表面钝化及其在绝缘栅异质晶体管中的应用
机译:用于减少alGaN / GaN高电子迁移率晶体管(HEmT)中电流崩塌的表面钝化膜的比较