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【24h】

Role of the buffer porous layer and dysprosium doping in GalnP-porGaAs-GaAs heterostructures

机译:缓冲多孔层和掺杂在GalnP-porGaAs-GaAs异质结构中的作用

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摘要

In the samples with porous buffer layer the residual internal stresses caused by the difference in lattice parameters between the surface layer of ternary GalnP alloy and GaAs sub-rnstrate are redistributed into the porous layer, which in this case plays a role of a "sponge" and completely removes the internal stresses.
机译:在具有多孔缓冲层的样品中,由三元GalnP合金表面层和GaAs子衬底之间的晶格参数差异引起的残余内应力会重新分布到多孔层中,在这种情况下,它起着“海绵”的作用。并完全消除了内部应力。

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