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机译:MOCVD法低温沉积Ⅲ族氮化物薄膜的系统研究
Department of Electrical Engineering University of Washington Paul Allen Center Box 352500 Seattle WA 98195 USA;
机译:低温沉积CD_(1-X)Zn_XTE(0≤x≤1)薄膜的结构,光学和电性能的组合研究通过MOCVD
机译:MOCVD沉积的氮化钨薄膜:碳的来源及其对膜结构和化学计量的影响
机译:低温下通过反应溅射和等离子增强CVD沉积的氮化硅薄膜的特性
机译:低温等离子体沉积硅氮化硅薄膜的化学结构
机译:通过MOCVD沉积的低温III族氮化物薄膜的原位和生长后研究。
机译:不同温度下斜角沉积沉积金属雕塑薄膜的比较研究
机译:射频等离子体辅助MBE在中温缓冲层上沉积的氮化镓薄膜中的低频噪声
机译:等离子体沉积的薄氮化硅薄膜在700℃的温度下的粘附,摩擦和磨损