机译:氢化对射频磁控溅射制备的GaAs薄膜的光学和结构性能的影响
Lab Nacl Luz Sincrotron, BR-13084971 Campinas, SP, Brazil;
EXAFS; gallium arsenide; GaAs; sputtering; hydrogenation; SPECTROSCOPY;
机译:射频磁控溅射在低生长温度下制备的氢化硅膜的光学和结构性质:作为氩气稀释功能的研究
机译:射频磁控溅射技术制备非晶AlxSi0.45-xO0.55(0 <= x <= 0.05)薄膜的纳米结构和光学特征
机译:射频磁控溅射制备的超光滑纳米BiVO_4纳米晶薄膜的光学常数,色散能参数和介电性能
机译:射频磁控溅射和元素层硒化制备的CIS膜的结构和光学性质的比较研究
机译:沉积参数与射频磁控溅射沉积氧化锆薄膜性能之间的关系。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:通过RF-磁控溅射制备的SiO2 / TiO2 / ZRO2 / ZRO2 / ZRO2BROOD带薄膜的光学性能
机译:射频磁控溅射制备Gaas薄膜