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机译:通过实施等离子体损伤监测来验证和减少大电流/中等电流植入过程中的表面电荷
机译:高能注入器的充电控制:等离子损伤监测表明的工艺要求
机译:碳化光致抗蚀剂表面层的中等电流离子注入过程中的充电现象
机译:如何验证中等电流植入物上的入射植入物角度
机译:监测和比较等离子处理引起的边缘暴露和等离子充电电流损坏的新方法
机译:在等离子体处理过程中进行等离子体注入和栅极氧化物充电的研究。
机译:等离子体电荷电流用于控制和监视电子束振荡的电子束焊接
机译:Otimizaçãodassuperfíciesdosimplantes:titânioejateamento com酸调节等离子体 - 当前状态植入物表面的优化:钛等离子喷涂和酸蚀喷砂 - 当前状态
机译:高电流离子注入期间的表面电荷控制:使用CHaRm-2传感器进行表征