机译:使用深X射线光刻技术制造具有高深宽比的微结构的关键问题
Room B205B, Institute of Physics, Academia Sinica Nankang, Taipei 115, Taiwan;
LIGA; DXRL; high aspect ratio; exposure and development; microstructure;
机译:X射线光刻技术制备的聚甲基倍半硅氧烷基旋涂玻璃厚膜的高纵横比显微组织
机译:超深X射线光刻技术制成的超高纵横比微结构的开发与表征
机译:通过浇铸软材料复制深X射线光刻制造的微结构
机译:深X射线光刻技术的微细加工:影响微结构几何形状的技术方面
机译:开发制造高长径比的聚对二甲苯微结构的方法。
机译:靶向和持续药物输送系统的X射线光刻技术制备的包裹有Lapatinib粉末的生物可降解聚合物微结构的评价
机译:通过电子束光刻和晶圆键合制造的高纵横比X射线波导通道