机译:电子束投影光刻中光刻胶图形精度的拼接误差依赖性
The Institute of Electrical Engineering of Chinese Academy of Science, Laboratory of Micro and Nano Technology, P.O. Box 2703, No. 6 Bei-Er-Tiao, Zhong Guan Cm, Beijing 100080, PR China;
electron beam lithography; microelectronic; stitching error; nanostructures;
机译:用于光子波导制造的电子束光刻:场拼接误差对光学性能的影响的测量和新补偿方法的评估
机译:拼接误差对使用电子束光刻技术制造的DFB激光器的光谱特性的影响
机译:电子束直径,电子能量,抗蚀剂厚度和抗蚀剂类型的依赖关系,通过使用蒙特卡洛模拟在EB光刻中形成纳米点阵。
机译:EB直写和电子束投影光刻(EPL)的拼接精度测量系统
机译:聚合物抗蚀剂的电子束感应电导率效应和电子束光刻中的电荷感应电子束偏转模拟。
机译:海藻糖糖醇抗性可通过电子束光刻直接写入蛋白质图案
机译:MR-POSEBR:高分辨率电子束光刻和3D表面图案的新型正音抗蚀剂
机译:通过镜头移位电子束光刻减少光栅中的拼接错误