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机译:退火对金属有机分子束外延生长HfO_2薄膜性能的影响
Information and Electronic Materials Research Laboratory, Department of Materials Science and Engineering, Yonsei University, 134 Shinchon-Dong, Seodaemun-Gu, Seoul 120-749, Republic of Korea;
HfO_2; high-k dielectric materials; metalorganic molecular beam epitaxy; angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy;
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