机译:用化学机械抛光技术评估氧化铟锡薄膜的电学和光学性能
Department of Electrical Engineering, Daebul University, 72, Sanho-ri, Samho-myun, Youngam-kun, Chonnam-do 526-702, Republic of Korea;
chemical mechanical polishing (CMP); indium tin oxide (ITO); process parameters; removal rate; within-wafer non-uniformity (WIWNU);
机译:通过超声化学喷涂技术沉积的纳米结构铟掺杂氧化锌薄膜的电气和光学性质,从乙酰丙酮锌和氯化铟(Rtreaction of Vol 26,PG 288,2014)开始
机译:超声化学喷涂技术沉积的纳米结构铟掺杂氧化锌薄膜的电学和光学性质,从乙酰丙酮锌和氯化铟开始
机译:喷雾热解法制备的掺锡氧化铟薄膜的光学,结构和电学性质
机译:通过纳米型锡掺杂铟氧化物颗粒的分散体制备薄膜的电气和光学性质
机译:使用纳米技术的氧化物和氧化铟锌薄膜的氧化物和氮化物的光学,结构,电和磁性的工程
机译:通过超声化学喷涂技术沉积的掺杂铟的氧化锌薄膜从乙酰丙酮锌和氯化铟开始
机译:喷射雾化器喷雾热解法制备氧化铟锡超薄膜的结构,光学和电学性能