机译:通过聚焦离子束铣削和等离子蚀刻处理InP膜中的光子晶体
Institute of Nanostructure Technologies and Analytics (INA) and CINSaT, Heinrich-Plett-Str. 40, 34132 Kassel, University of Kassel, Germany;
FOM-Institute for Atomic and Molecular Physics (AMOLF), Science Park 104, 1098 XB Amsterdam, The Netherlands;
Institute of Nanostructure Technologies and Analytics (INA) and CINSaT, Heinrich-Plett-Str. 40, 34132 Kassel, University of Kassel, Germany;
Institute of Electrical Engineering and Information Technology, Warburgerstr. 100, 33098 Paderborn, University of Paderborn, Germany;
Institute of Nanostructure Technologies and Analytics (INA) and CINSaT, Heinrich-Plett-Str. 40, 34132 Kassel, University of Kassel, Germany;
focused ion beam; mems; photonic crystals; hardmask; indium phosphide; plasma etching;
机译:聚焦离子束碘增强InP光子晶体中高深宽比孔的蚀刻
机译:结合反应离子束刻蚀和反应离子刻蚀在InAsP / InP膜中制造高质量因子光子晶体微腔
机译:通过聚焦离子束蚀刻多层膜制备的二维光子晶体的图案和特性
机译:聚焦离子束研磨在硫属化物玻璃中制备光子晶体膜
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:3D手性光子纳米结构的聚焦离子束处理
机译:Cl2,Cl2 / O2和Cl2 / N2电感耦合等离子体工艺刻蚀InP中高纵横比光子晶体孔的比较研究