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机译:使用衬底保形压印光刻技术在氮化硅中制造光子集成电路
AMO GmbH, D-52072 Aachen, Germany;
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Photonic integrated circuit; Nanoimprint lithography; Silicon nitride; Grating coupler; Wave guides; Substrate conformal imprint lithography;
机译:氮化硅平台上光子集成电路电子束光刻抗蚀剂参数的确定方法。
机译:利用氮化硅光子集成电路扩大硅光子学产品组合
机译:通过基板保形压印光刻技术获得的抗反射多孔硅特征,用于硅光伏应用
机译:用于三维集成光子器件和电路的多层硅氮化硅光子平台
机译:分步和闪光压印光刻:用于制造高级集成电路的材料和应用。
机译:基于UV纳米压印光刻和热压印的二维二氧化硅光子晶体的偏振调制与制备方法
机译:氮化硅平台上的光子集成电路电子束光刻抗蚀剂参数的测定方法