机译:氢热退火以在绝缘体上硅上进行3-D轮廓转换并减少侧壁粗糙度
Annealing; Surface diffusion; Surface roughness;
机译:降低绝缘体上硅肋形波导中的侧壁粗糙度
机译:氢气气氛下绝缘体上硅结构的界面态转变
机译:侧壁粗糙度的研究引起了硅与共聚焦激光扫描显微镜的光学散射丧失
机译:硅退火和氢退火降低侧壁粗糙度
机译:使用热循环退火在硅片上生长的碲化镉和汞镉碲化镉的脱位密度降低
机译:热退火和分子间作用力诱导金红石型TiO2上PTCDA结构的转变
机译:在氢气中进行热退火以在绝缘体上硅上进行3-D轮廓转换并降低侧壁粗糙度