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机译:溅射压力对磁控溅射沉积ZrN薄膜组织和力学性能的影响
Xiamen Univ, Coll Energy, Xiamen, Peoples R China;
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Zirconium nitride films; Magnetron sputtering; Microstructure; Mechanical properties;
机译:使用不同溅射压力在柔性基板上沉积的抗碲化酰胺薄膜的微观结构和电性能
机译:直流磁控溅射和大功率脉冲磁控溅射在不同工作压力下沉积的AlN薄膜的结构性能和残余应力的比较
机译:Al浓度对RF-ICPIS增强磁控溅射沉积的Ti-Al-N膜微观结构和力学性能的影响
机译:过程变量对在AlSl D3和4140钢上沉积的直流反应磁控溅射ZrN_x薄膜的力学和摩擦学性能的影响
机译:溅射参数对RF磁控溅射沉积ITO膜的影响
机译:磁控溅射沉积非晶碳膜的基体温度相关的微观结构和电子诱导的二次电子发射特性
机译:磁控溅射沉积锡/钛/ TIC多层薄膜的组织和力学性能