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毛飞雄; 刘涛; 于景坤;
东北大学材料与冶金学院,沈阳110819;
磁控溅射; Mg薄膜; 沉积压力;
机译:氩气压力对dc沉积TiO_2薄膜结构和光催化性能的影响。磁控溅射
机译:直流磁控溅射法沉积沉积TiCrn薄膜结构的退火温度的影响
机译:基板偏压对反应磁控溅射沉积沉积的ZrO2薄膜结构,机械和腐蚀性能的影响
机译:放电气体压力对反应磁控溅射沉积的SnO_2薄膜结构性能的影响
机译:溅射参数对RF磁控溅射沉积ITO膜的影响
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机译:氩气压力对直接沉积TiO2薄膜结构和光催化性能的影响磁控溅射
机译:沉积条件对射频磁控溅射mos2薄膜的影响
机译:用于溅射沉积源的磁性装置,磁控溅射沉积源以及利用磁控溅射沉积源在基板上沉积膜的方法
机译:磁控溅射膜沉积装置,磁控溅射膜沉积方法以及使用该方法制造的膜成员
机译:磁控溅射沉积装置和磁控溅射沉积系统
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