机译:氮和偏压对热丝化学气相沉积法生长同质外延金刚石的影响
Department of Power Mechanical Engineering, National Tsing Hua University, Hsinchu, Taiwan;
rnDepartment of Mechanical & Mechatronic Engineering, National Taiwan Ocean University, Taiwan;
rnDepartment of Mechanical & Mechatronic Engineering, National Taiwan Ocean University, Taiwan;
homoepitaxial diamond; hot filament chemical vapor deposition; bias; nitrogen effect;
机译:热丝化学气相沉积系统中偏压增强成核和H_2 / CH_4 / Ar混合物的金刚石膜生长动力学
机译:使用热丝化学气相沉积技术生长掺氮金刚石薄膜
机译:偏压极性对热丝化学气相沉积金刚石沉积的影响
机译:热丝化学气相沉积法制备的多晶金刚石薄膜的摩擦学性能
机译:碳纳米管和钻石在热丝化学气相沉积条件下的相互作用。
机译:微波等离子体化学气相沉积掺氮钻石。 II:CH4 / N2 / H2等离子
机译:热丝化学气相沉积对同质金刚石生长的氮和偏压效应
机译:通过微波等离子体辅助化学气相沉积在高温下高生长率同质外延金刚石膜沉积