Study of wafer drying techniques for predeposition cleaning of silicon substrate surface

Hyoun Woo Kim

首页> 外文期刊>Journal of Materials Science >Study of wafer drying techniques for predeposition cleaning of silicon substrate surface

【24h】

Study of wafer drying techniques for predeposition cleaning of silicon substrate surface

机译：硅衬底表面预沉积清洗的晶圆干燥技术研究

获取原文

获取原文并翻译 | 示例

掌桥外文数据库（机构版） >>

开具论文收录证明 >>

文献代查 >>

页面导航

著录项
相似文献
相关主题

著录项

来源
《Journal of Materials Science》 |2004年第14期|4669-4670|共2页
作者
Hyoun Woo Kim;
展开▼
作者单位

School of Material Science and Engineering Inha University;

展开▼
收录信息
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类
关键词

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Elucidation of an isopropyl alcohol (IPA) adsorption phenomenon on a wafer surface for achieving an ultra-clean and IPA-saving drying process in the batch cleaning system [J] . Hagimoto Y., Tetsuka T., Iwamoto H., Diffusion and Defect Data. Solid State Data, Part B. Solid State Phenomena . 2012,第Null期

机译：阐明了晶片表面上异丙醇（IPA）的吸附现象，以实现批量清洗系统中的超净和节省IPA的干燥过程
2. Elucidation of an isopropyl alcohol (IPA) adsorption phenomenon on a wafer surface for achieving an ultra-clean and IPA-saving drying process in the batch cleaning system [J] . Hagimoto Y., Tetsuka T., Iwamoto H., Diffusion and Defect Data. Solid State Data, Part B. Solid State Phenomena . 2012,第Null期

机译：阐明了晶片表面上异丙醇（IPA）的吸附现象，以实现批量清洗系统中的超净和节省IPA的干燥过程
3. Si wafer surface cleaning using laser-induced shock wave: a new dry cleaning methodology [J] . Lee SH., Park JG., Lee JM., Surface & Coatings Technology . 2003,第0期

机译：使用激光诱发的冲击波清洗硅晶片表面：一种新的干洗方法
4. Dry Cleaning of Organic Contamination on Silicon Wafers Using Rapid Optical Surface Treatment [C] . N. R, F. Tardif, A. Roche, International symposium on ultra clean processing of silicon surfaces . 2001

机译：使用快速光学表面处理在硅晶片上干洗有机污染
5. Novel surface cleaning technique with chemical etching for ideal hydrogen termination: Surface chemistry and morphology of the silcon(111) and silicon(100) surfaces. [D] . Yang, Sung-Kwang. 1993

机译：具有理想氢终止作用的化学蚀刻新表面清洁技术：silcon（111）和硅（100）表面的表面化学和形态。
6. Improvement of polycrystalline silicon wafer solar cell efficiency by forming nanoscale pyramids on wafer surface using a self-mask etching technique [O] . Hsin-Han Lin, Wen-Hwa Chen, Franklin C.-N. Hong -1

机译：通过使用自掩膜蚀刻技术在晶圆表面形成纳米级金字塔提高多晶硅晶圆太阳能电池效率
7. The Cleaning Technology Using the D.I. Water for SMT. The Cleaning Techniques of Silicon Wafers Using the D.I. Water for ULSI Fabrication Process. [O] . Teruhito Ohnishi, Yuichi Hirofuji 1991

机译：使用D.I的清洁技术。 SMT的水。使用D.I的硅晶片的清洁技术。 Ulsi制造过程的水。

Study of wafer drying techniques for predeposition cleaning of silicon substrate surface

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅