晶圆清洗与表面预处理:从演变到革新

摘要

随着器件尺寸的不断缩小和规范的日趋严格,清洗所面临的大多数挑战都处于不断地演变发展之中。各种新材料、新集成方案和新工艺流程的引入,正在带来一场清洗的革命。