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机译:通过使用成分调制的逐步分级AIGalnAs缓冲液改善了GaAs衬底上InP层的质量
Changzhou Coll Informat Technol Sch Elect Engn 22 Middle Mingxin Rd Changzhou 213164 Peoples R China;
Changzhou Coll Informat Technol Basic Courses Dept 22 Middle Mingxin Rd Changzhou 213164 Peoples R China;
Chinese Acad Sci Suzhou Inst Nanotech & Nanobion Key Lab Nano Devices & Applicat Suzhou 215123 Peoples R China;
机译:GaAs衬底取向错误对起伏的成分阶梯式AIGalnAs缓冲液特性的影响
机译:使用中间InAs_yP_(1-y)逐步渐变缓冲液在InP衬底上生长的Si掺杂InAs_yP_(1-y)层中的载流子补偿和散射机理
机译:GAAS基板上的组成阶梯分级藻类缓冲器的制造与仿真Galnas太阳能电池
机译:逐步分级的In
机译:GaAs衬底上用于1.3微米电吸收调制器的InGaAs / InAlAs量子阱。
机译:GaAs(001)上生长的高质量100 nm厚InSb膜具有InxAl1-xSb连续渐变缓冲层的基板
机译:使用Se掺杂的GaAs缓冲层和光栅图案基板对INP高质量GaAs的液相外延生长
机译:通过分子束外延在Gaas衬底上生长的InGaas / alGaas pIN光调制器的缓冲层优化