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机译:纳米形貌对浅沟隔离化学机械抛光的影响-分析方法及耗材依赖
Nano-SOI Process Laboratory, Hanyang University, Seoul 133-791, Korea;
机译:纳米形貌对浅沟槽隔离化学机械抛光中二氧化铈浆料中磨料尺寸和表面活性剂浓度的影响
机译:浅沟槽隔离化学机械抛光(STI-CMP)中二氧化铈浆料的纳米形貌影响和非Prestonian行为
机译:晶圆纳米形貌对多晶硅化学机械抛光制造的Nand闪存单元中阈值电压变化的影响
机译:浅沟槽隔离化学机械抛光中的纳米形貌影响-取决于浆料特性
机译:二氧化硅,钨和浅沟隔离化学机械平面化工艺与垫微纹理,调节圆盘型和年龄,摩擦学,流体动力学和动力学相关的新型研究
机译:化学机械抛光实施后化学机械抛光对钛植入物表面性质的影响FT-IR和钛植入物表面的润湿性数据
机译:纳米复印件对浅沟槽隔离化学机械抛光的表面活性剂加入对烟雾二氧化硅和二氧化硅浆料的依赖性