机译:大功率脉冲磁控溅射薄膜处理简介
Plasma & Coatings Physics , IFM-Materials Physics, Linkoping University, SE-581 83 Linkoping, Sweden;
Plasma & Coatings Physics , IFM-Materials Physics, Linkoping University, SE-581 83 Linkoping, Sweden;
机译:高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射技术沉积的低电阻率Ru_(1-x)Ti_xO_2薄膜
机译:工艺参数对大功率脉冲磁控溅射沉积类金刚石碳薄膜光学特性的影响
机译:使用大功率脉冲反应磁控溅射制备钽氮化钽薄膜的微观结构和电性能
机译:倾斜靶在不同工作压力下大功率脉冲磁控溅射沉积AlN薄膜
机译:用于薄膜晶体管应用的氧化锌的反应性大功率脉冲磁控溅射
机译:大功率脉冲磁控溅射镍薄膜的斜角沉积
机译:大功率脉冲磁控溅射薄膜处理简介