高能脉冲磁控溅射技术制备VO2薄膜研究进展

摘要

cqvip:高能脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术具有低占空比、低频率、高峰值功率密度、高溅射等离子体密度等特点,能够在高峰值功率下进行薄膜沉积,从而提高薄膜的沉积质量。将高能脉冲磁控溅射技术用于二氧化钒(VO2)薄膜的沉积,能够降低其制备温度,提高致密度。本文介绍了高能脉冲磁控溅射技术的特点,阐述了高能脉冲磁控溅射技术制备VO2热致变色材料的研究现状,最后总结了利用高能脉冲磁控溅射技术制备VO2薄膜的优势以及存在的问题并对其应用进行展望。