法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-05-31
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C14/35 申请公布日:20140723 申请日:20130123
发明专利申请公布后的驳回
2014-08-20
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/35 申请日:20130123
实质审查的生效
2014-07-23
公开
公开
机译: 可以将两种模式的磁通量分布(平衡模式/不平衡模式)从一种切换到另一种的磁控溅射装置,以及一种使用该装置由无机成膜材料形成膜的成膜方法,以及一种双模式磁控溅射装置及成膜方法,使用该装置由无机成膜材料在低温下成膜
机译: 磁控溅射装置的靶组件,磁控溅射装置和使用磁控溅射装置的方法
机译: 磁控溅射装置,磁控溅射装置及磁控溅射方法