机译:使用电控浆料的摩擦化学抛光对玻璃基板进行的高效抛光技术
Akita Industrial Technology Center, Akita City, Japan;
Akita Industrial Technology Center, Akita City, Japan;
AC electric field; Removal rate; CMP; Slurry; Abrasives; Cerium oxide; Rare earth; Glass substrate; Slurry distribution; Tribo-chemical reaction;
机译:石英玻璃基板抛光过程中浆料流动和温度的研究
机译:大型石英玻璃基板抛光的浆料供给方法
机译:交流电场下水基浆料抛光玻璃基板的新方法
机译:摩擦化学抛光与电控浆料的玻璃基板高效抛光技术
机译:氧化铝浆液喷射对铝基板抛光和腐蚀的影响:实验和CFD建模
机译:浆料组成对金刚石薄膜化学机械抛光的影响
机译:交流电场栽培抛光技术的开发促进玻璃基板高效抛光