机译:界面性质在InP中外延生长的金属有机气相Fe分布退化中的作用
Heinrich-Hertz-Institut fuer Nachrichtentechnik Berlin GmbH, Einsteinufer 37, D-10587 Berlin, Germany;
InP; iron doping; metalorganic vapor phase epitaxy (MOVPE); substrate preparation;
机译:薄GaAs界面层对金属有机气相外延生长在InGaAs / InP上的InAs量子点的影响
机译:在不同金属有机气相外延条件下生长的(In,Ga)(As,P)/ GaAs界面的性质
机译:锑表面活性剂对压缩应变的In_(0.80)ga_(0.20)的缺陷演化的影响,In_(0.80)ga_(0.20)是金属有机气相外延生长在Inp上的量子阱
机译:低压金属化学气相沉积在GaAs上生长的INSB外延薄膜的表面和界面性质
机译:金属有机气相外延生长的薄膜InMnSb多相半导体合金的相稳定性和铁磁性
机译:金属有机化学气相沉积外延生长的锗纳米柱太阳能电池
机译:缓冲层对由金属多孔阶段外延生长的INSB薄膜电性能的影响