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机译:电子回旋共振等离子体溅射在Si和SiO2上生长的LiNbO3薄膜的界面结构与c轴取向的相关性
NTT Microsyst Integrat Labs, Atsugi, Kanagawa 2430198, Japan;
sputtering; lithium compounds; opto-electric materials; PULSED-LASER DEPOSITION; OPTICAL WAVE-GUIDE; NIOBATE THIN-FILMS; EPITAXIAL-GROWTH; TEMPERATURE; AL2O3;
机译:电子回旋共振等离子体溅射在TiN薄膜上生长LiNbO3薄膜的晶体取向控制
机译:通过电子回旋共振等离子体溅射直接沉积在SiO2上的高粘性Pt电极膜
机译:多极电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积在室温下生长的SiO2薄膜中的导电和俘获机理
机译:电子回旋谐振等离子体溅射制备的CoCroc膜的合成分离微观结构
机译:通过光子辅助的电子回旋共振化学气相沉积法生长的非晶和微晶硅薄膜,用于异质结太阳能电池和薄膜晶体管。
机译:通过直接等离子体辅助氧化控制4H-SiC上生长的SiO2膜中的缺陷和过渡层
机译:电子回旋共振微波等离子体对Ni-Zn铁氧体薄膜的低温溅射沉积
机译:通过电子回旋共振等离子体氧化在(100)si衬底上生长的薄(<10nm)siO(sub 2)膜的结构和界面特性。