机译:未掺杂的GaN层厚度对AlGaN / GaN基紫外发光二极管性能的影响
Satellite Venture Business Laboratory, Mie University, Kamihama 1515, Tsu, Mie 514-8507, Japan;
A1. defects; A1. transmission electron microscopy; A3. superlattice; B1. nitride; B3. light emitting diodes;
机译:GaN / AlGaN /溅射ALN成核层对GaN基紫外发光二极管性能的影响
机译:带有渐变超晶格AlGaN / GaN插入层的绿色GaN基发光二极管的性能增强
机译:AlGaN电子阻挡层厚度对AlGaN基紫外发光二极管性能的影响
机译:通过使用重掺杂Si的GaN生长模式过渡层实现高性能375 nm紫外InGaN / AlGaN发光二极管
机译:GaN基发光二极管上的光学功能结构,用于提高光提取效率和控制发射模式。
机译:GaN / AlGaN /溅射AlN成核层对GaN基紫外发光二极管性能的影响
机译:具有不同纹理表面和GaN层厚度的垂直GaN基发光二极管光输出功率的实验研究