机译:使用均质缓冲层生长的纤维织构SrAl_2O_4:Eu膜的制备和表征
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST Kyushu), Shuku 807-1, Tosu, Saga 841-0052, Japan;
A1. Crystal structure; A1. X-ray diffraction; A3. Physical vapor deposition process; B1. Inorganic compound; B2. Phosphors;
机译:SrAl_2O_4均质缓冲层对RF溅射在玻璃上生长的SrAl_2O_4:Eu荧光粉薄膜的影响
机译:双缓冲层在硅衬底上生长的SrAl_2O_4:Eu膜的制备及机械发光性能
机译:均质缓冲层对通过脉冲激光沉积在Si(100)上生长的ZnO薄膜的光学性能的影响
机译:SRAL_2O_4同源缓冲层对SRAL_2O_4的影响:RF溅射在玻璃上生长的欧盟磷光体膜
机译:有机-无机层状自组装多层膜:制备,表征和应用。
机译:基于天然P(3HB)/ MCL-PHA共混物的薄膜制备和表征通过Cupriavidus Necator和苹果浆废料中的铜绿族废弃物的共培养
机译:使用层组装在电极表面上生长的多氧酸盐/蛋白质超薄膜的制备与表征